深圳納宏光電技術(shù)有限公司（NMOT）專業(yè)生產(chǎn)的帶通濾光片采用全介質(zhì)硬膜鍍膜的技術(shù)和介質(zhì)干涉的原理，在凸顯窄帶濾光片特性的基礎(chǔ)上，光學(xué)性能與基片厚度無關(guān)，納宏光電生產(chǎn)的窄帶濾光片更便于內(nèi)置儀器成像系統(tǒng)里面。使之光學(xué)性能得以提升和有效應(yīng)用，采用特殊的光學(xué)材料基底，解決傳統(tǒng)意義上吸收型合成玻璃易發(fā)霧及光學(xué)性能不穩(wěn)定等問題，產(chǎn)品依據(jù)客戶的指標(biāo)需求予以生產(chǎn)制作。
650nm帶通濾光片技術(shù)參數(shù)：
中心波長：650+/-2nm
帶通濾光片入射角 ：0°
半峰值帶寬 ：50nm
峰值透過率 ：>90%( 按客戶需求）
產(chǎn)品尺寸 ：3mm-80mm( 可訂制 )
截止波長 ：200nm-1100nm( 按客戶需求）
截止深度 ：>OD4-OD6 UV-NIR
產(chǎn)品材質(zhì) ：光學(xué)級(jí)別類玻璃（ K9,BK7,B270,D263T,JGS1,顏色玻璃,浮法玻璃等 )
表面光潔度 ：國標(biāo)三級(jí)，美軍標(biāo)60-40
真空離子電鍍法是目前光學(xué)行業(yè)使用比較多的濾光片鍍膜工藝工藝，物理氣相沉積術(shù)（PVD）屬于光學(xué)鍍膜最重要的工藝范疇。首先在真空鍍膜機(jī)中利用離子轟擊清洗濾光片待鍍膜基板表面，接著啟動(dòng)蒸發(fā)源部分氣體在等離子體轟擊中離子化，并被預(yù)熱濾光片基板表面的負(fù)壓加速，因此，在層基板和部分新形成的金屬層連續(xù)被燒蝕的同時(shí)，汽化金屬層便生長在濾光片基板上。電子束蒸發(fā)技術(shù)相結(jié)合，可以得到較高的沉積率。
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