鍍膜的時(shí)候提高基片溫度有利于將吸附在基片表面的剩余氣體分子排除，增加基片與沉積分子之間的結(jié)合力；同時(shí)會(huì)促使物理吸附向化學(xué)吸附轉(zhuǎn)換，增強(qiáng)分子之間相互作用，使濾光片膜層結(jié)構(gòu)緊密。例如，MεF2膜，基片加熱到250~300℃可減小內(nèi)應(yīng)力，提高聚集密度，增加濾光片膜層硬度；基片加熱到120~150℃制備的ZAO2-SiO2多層膜，其機(jī)械強(qiáng)度提高了許多，但基片溫度過高會(huì)造成濾光片膜層變質(zhì)。